產品簡介
NE-Q05H小型等離子體清洗儀整套系統(tǒng)包括真空倉、射頻發(fā)生器、真空泵以及進排氣口。處理器為電容耦合外電極型，處理室為圓筒形石英玻璃。等離子體放電系統(tǒng)為200W高頻振蕩電源，電源頻率13.56MHz，為了保證電源有效地供給放電功率，在電源與放電電極間配有阻抗匹配器。此設備處理器采用外電極式，即放電能量從處理器外部施加，可以避免電極的腐蝕和反應物在極板沉積的問題。
等離子清洗技術利用了低溫等離子體特性使等離子體與材料表面進行接觸與反應, 使被處理材料表面得到化學、物理的清潔,提高表面的潤濕性,或者植入新的化學官能團以及表面蝕刻。
產品參數
| 型號 | NE-Q05H |
| 頻率 | 射頻13. 56 MHz 固態(tài)射頻電源 |
| 功率 | 200W |
| 腔體材質 | 石英耐熱玻璃 |
| 腔體容積 | 5L |
| 腔體尺寸（圓形） | Φ150×280（D）mm |
| 氣體流量控制器 | MFC 質量流量控制器， 0-300sccm |
| 氣路數量 | 2 路氣體，支持氧氣，氬氣等（如需接入腐蝕性氣體，提前告知） |
| 真空測定系統(tǒng) | 皮拉尼真空硅管 |
極限真空度 | 1Pa |
| 控制方式 | PLC+4.3寸觸摸屏 |
| 電源供應 | 220V |
| 外形尺寸 | 548mm(L)×588mm(W) ×617 mm(H) |
產品應用
表面親疏水改性
提升材料表面能
改變材料表面形貌
引入特殊的官能團
PDMS鍵合
提高粘接性能
Support
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